การศึกษาปัจจัยที่มีผลต่อปัญหาฟิล์มลอกในการเคลือบผิวฟิล์มบาง แผ่นซิลิคอนเวเฟอร์ โดยประยุกต์ใช้การออกแบบการทดลอง
Article Sidebar
Main Article Content
บทคัดย่อ
บทความวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อศึกษาผลกระทบของ 3 ปัจจัย (อุณหภูมิของชิ้นงาน ความดันสุญญากาศ อัตราการระเหยของสารเคลือบ) ที่ส่งผลต่อการลอกของฟิล์มบางในกระบวนการเคลือบแผ่นซิลิกอนเวเฟอร์ของโรงงานกรณีศึกษาแห่งหนึ่ง การออกแบบการทดลองเชิงแฟคตอเรียลแบบเต็มรูป 23 ถูกนำมาใช้เพื่อศึกษาอัตราการลอกของฟิล์มบาง ในการทดลองนี้ใช้ตัวอย่างการทดลองครั้งละ 2 ชิ้นรวมทั้งสิ้น 32 ชิ้น และมีการทดลองซ้ำ 2 ครั้ง จากนั้นทดสอบการยึดเกาะของฟิล์มโดยการกรีดผิวฟิล์มเป็นตาราง ใช้เทปกาวใสปิดทับบริเวณที่กรีดแล้วดึงขึ้นเพื่อประเมินอัตราการลอกของฟิล์มบาง จากผลการทดลองพบว่าปัจจัยหลักที่มีผลต่อการเกิดฟิล์มลอกที่ระดับนัยสำคัญ 95% (α = 0.05) ได้แก่ อุณหภูมิชิ้นงาน อันตรกิริยาระหว่าง อุณหภูมิชิ้นงานกับแรงดันสุญญากาศ และอันตรกิริยาสามปัจจัยหลัก (อุณหภูมิชิ้นงาน แรงดันสุญญากาศ และ อัตราการระเหยสาร)
Article Details
"ข้อคิดเห็น เนื้อหา รวมทั้งการใช้ภาษาในบทความถือเป็นความรับผิดชอบของผู้เขียน"
References
[2] อนันต บรรหารสกุล. 2549. การสร้างแบบจําลอง ขนานสําหรับการเคลือบฟิลม์บางโดยใช้วิธี DSMCวิทยานิพนธ์ วิศวกรรมศาสตรมหาบัณฑิต สาขาวิชา วิศวกรรมคอมพิวเตอร์ คณะวิศวกรรมศาสตร์ มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี.
[3] กฤตธน ส้มอั๋น. 2554.ปัจจัยที่ส่งผลต่อความ รู้และเจตคติของหัวหน้างานเกี่ยวกับระบบห้อง สะอาดในอุตสาหกรรมการผลิตชิ้น ส่วนอิเล็กทรอนิกส์ และอุตสาหกรรมการผลิตยาในเขตกรุงเทพมหานคร และปริมณฑล. วารสารครุศาสตร์อุตสาหกรรม,10(3), น.236-245
[4] H Angus Macleod, 1986, 2001. Thin Film Optical Filters. 3rd ed., Institute of Physics, London (n.p.)
[5] นิรันดร์ วิทิตอนันต์. 2553 กระจกเงาเคลือบโครเมียม ที่เคลือบด้วยเทคนิคสปัตเตอริงสำหรับกระจกเงาส่องหลังรถยนต์ วารสารมหาวิทยาลัยทักษิณ, 12(3), น.52-63.
[6] ประไพศรี สุทัศน์ ณ อยุธยา และพงศ์ชนัน เหลืองไพบูลย์.2551. การออกแบบและวิเคราะห์การทดลอง(Design and analysis of experiment). กรุงเทพฯ: ท้อป.
[7] Sheeja, D., Tay, B.K., Leong, K.W. and Lee, C.H. (2002). “Effect on film thickness on the Stress And adhesion of diamond-like Carbon Coatings, “Diamond and Related Material, 11, p. 1643-1647.
[8] Wei, C. And Yen, J.Y. (2007). “Effect of film Thickness and interlayer on the adhesion Strength Of diamond like carbon films on Different Substrates,” Diamond and Related Materials, 16, p. 1325- 1330
[9] Varias, A.G., Mastorakos, I. And Aifantis, E.C. (1999). “Numerical simulation of interfaceCrack in thin films,” International Journal of Fracture, 98, p. 195-207
[10] Kitamura, T., Hirakata, H. and Itsuji, T. (2003). “Effect of residual stress on Delamination From Interface dege Between Nano-films,” Engineering Fracture Mechanics, 70, p. 2089 - 2101.