ดู ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง Effect of N2 Gas Flow Rate on Structure of VN Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering Method

กลับไปที่รายละเอียดบทความ ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง Effect of N2 Gas Flow Rate on Structure of VN Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering Method ดาวน์โหลด ดาวน์โหลด PDF