วิทิตอนันต์ น, ไชยคุณ ส. ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง Effect of N2 Gas Flow Rate on Structure of VN Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering Method. RMUTI Journal [Internet]. 2016 Sep. 1 [cited 2024 May 4];9(2):177-98. Available from: https://ph01.tci-thaijo.org/index.php/rmutijo/article/view/65776