วิทิตอนันต์ น., & ไชยคุณ ส. (2016). ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง Effect of N2 Gas Flow Rate on Structure of VN Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering Method. Research on Modern Science and Utilizing Technological Innovation Journal (RMUTI Journal), 9(2), 177–198. Retrieved from https://ph01.tci-thaijo.org/index.php/rmutijo/article/view/65776